不到10年时间，从4代技术差距缩短到2代，bSEc的管理层和技术人员都尽力了。
孙健知道，要是没有65n制程工艺这道难关挡在光刻机业界的前面，有他出钱出力，bSEc在15年内也很难赶上光刻机技术实力雄厚的GcA和Nikon。
连李昌杰都不知道，bSEc研究院院长邓国辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过2年半的潜心研究，有孙健不断「点拨」，终于在去年7月研制成功浸没式光刻系统技术，ArF激光器发射的193n光源通过纯净水的折射，得到了波长134n的光源，解决了业界遇到的193n波长的世界级难题，还没有申请公司发明专利，秘而不宣。
只能委屈钱富强和140多名研发人员了。
研究员钱富强凭借主持研发成功浸没式光刻系统技术，攻克这项光刻机光源上的世界级难题，凭借这一世界级的重大科研成果，就能申请工程院院士。
邓国辉和钱富强从去年8月开始立项，bSEc投资1亿元，带领光源研究所，静下心来开始研发EUV。
作为上市公司，bSEc发布公告，投资1亿元继续研究193n波长的世界级难题。