1996年4月20日，bsec拿到公开发行新股的额度，6月11日，在鹏城证券交易所公开发行了15000万股新股（其中1000万股职工股），每股发行价6元，融资亿元（扣除发行费用），其中8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机，亿元用于补充公司流动资金。
当时bsec研制的6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机已经临近尾声。
“邓院长，研究院继续研发8英寸晶圆和500nm工艺的光刻机。”
“好的，董事长！”
“魏总，公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线，到时，pgca率先订购一条。”
“好的，董事长！”
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“董事长，经过近2年的联合攻关，研究证实，我们用去离子水等手段，保持水的洁净度和温度，使其不起气泡，用去离子水作为曝光介质，虽然光源波长还是用原来的193nm，但通过去离子水的折射，能使进入光阻的波长明显缩小，使用浸没式技术突破193nm波长可行，我们如今遇到的最大难题是我们自己制造的光学镜头不能满足突破193nm波长光刻光学器件的技术要求。”