一条半导体生产线中，除了占到半导体生产线成本三分之一的光刻机外，还需要清洗设备、高温/氧化炉管退火设备、匀胶机、烘干设备、显影设备、刻蚀机、去胶机、离子注入设备、cvd/pvd/ald/pecvd/cmp等大批高精尖设备，数量最多的是沉积设备（包括pvd cvd）、刻蚀设备（icp、ccp、die）和热处理设备（rtp），gca如今六成需要从其他半导体设备厂定购，然后系统集成。
gca如今专心生产光刻机、刻蚀机、硅晶圆、光刻胶、掩膜版和离子注入机，重生者也不担心gca被人制裁！
gca的股价如今美元，gca3500b研制成功的消息一旦公布于众，第二天的股价突破4美元都有可能。
gca的战略投资者赚得盆满钵满，对华人首富点石成金的本领佩服不已。
gca3500a研制成功后，美国商务部和sematech发来贺电，圣何塞布朗市长到场祝贺。
gca管理层、技术团队和普通员工欢欣鼓舞，干劲十足。
gca3500b光刻机的研制成功，gca重回全球光刻机之巅，重新领导全球光刻机产业发展的步伐，对gca的意义如同浴火重生、凤凰涅槃，在同日本半导体产业竞争中取得暂时领先的优势，对美国半导体产业的发展也具有重大意义。
全球近八成高端芯片的订单来自ii、amd和hp等美国高科技公司，这些公司都是sematech会员。
sematech也是扬眉吐气，赶超nikoech会员的共同目标，ii、amd和hp等美国半导体设备和生产公司将会抢先预定gca3500b光刻机和由gca3500b光刻机为主构成的半导体生产线。
按照双方签订的专利技术转让协定，gca研制的适合8英寸晶圆和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术将交给bsec，bsec将在国内专利局和国际专利局分别申请公司发明专利。
万事开头难！