正如牛庚预料的那般，在尝试联系了其它半导体芯片厂商后，均得到了相同的答复。
即无法为星源科技代工。
国内光刻机目前还在研发28纳米技术，根本制作不了星耀的7纳米甚至5纳米芯片，而长此下去，一旦芯片库存彻底告急，星耀这个品牌也就差不多名存实亡了。
将会给星源科技带来巨大损失。
单从眼下局面来看，似乎也就只有一条路可走。
那就是研发自己的芯片制造产业链，彻底摆脱海外在硬件上面的技术垄断。
真到那个时候，星源科技不会在存在任何相关行业的限制，最终受到损失的只会是维软等一众海外公司。
可惜梦想和现实之间是存在巨大差距的。
众所周知。
一条完整的芯片生产线需要光刻机、刻蚀机、离子注入机等多种前道工艺核心设备，而其中最为重要的光刻机，又包含很多先进技术，需要国内投入大量资金以及各项人才。
就这还不知道多长时间才能赶上海外顶尖水平。
在牛庚的印象中，国内关于光刻机的研发中，光源物镜光刻胶以及提高分辨率的技术都是硬伤，和海外存在较大差距。
虽然说牛庚可以使用优化点弥补，但包含这么多项技术，不知道要砸多少进去。
何况还会出现优化失败的情况。